半導(dǎo)體制造離不開光刻機這個我們都知道，對于半導(dǎo)體生產(chǎn)來說并不是只有光刻機很重要，還有涂膠顯影設(shè)備、刻蝕設(shè)備、離子注入設(shè)備、沉積設(shè)備、檢測設(shè)備等等，再者就是半導(dǎo)體原材料當(dāng)中相關(guān)的。其實，對于半導(dǎo)體領(lǐng)域中的光刻機所搭配的ups電源來說，其他重要設(shè)備也同樣需要，這方面的ups不間斷電源就可以直接咨詢我們優(yōu)比施廠家。

半導(dǎo)體除了光刻機還有什么設(shè)備?

1、刻蝕設(shè)備

光刻機關(guān)鍵一步是曝光，也就是就像相機在底片上的投影一樣，光刻機其實只是畫了圖，真正的微電路實現(xiàn)需要刻蝕機把電路蝕刻出來，刻蝕機的種類也很多。在芯片制造過程中，需要用到等離子刻蝕機，與光刻機的等離子刻蝕機最終可以完成芯片生產(chǎn)。

2.離子注入設(shè)備

離子注入機也是集成電路制造過程中最關(guān)鍵的設(shè)備。主要用于摻雜過程中，改變固體表面層的物理和化學(xué)性質(zhì)，控制半導(dǎo)體的電學(xué)性質(zhì)和修飾金屬。與傳統(tǒng)的摻雜工藝相比，它具有更高的精度、更低的溫度要求和更好的均勻性。目前，市場份額主要由美國的應(yīng)用材料和Axcelis控制

3.沉積設(shè)備

沉積設(shè)備有很多種，如原子層沉積設(shè)備、化學(xué)氣相沉積設(shè)備、物理氣相沉積設(shè)備等。即蒸發(fā)材料然后將它們沉積在電鍍工件上的薄膜制備技術(shù)。我們知道，有機發(fā)光二極管屏的工藝實際上采用的是沉積工藝，沉積工藝設(shè)備非常多樣，應(yīng)用廣泛，主要由美國和日本的科技公司控制

4.試驗檢測設(shè)備

在芯片生產(chǎn)過程中，有一定的成品率。在成品的最后，需要專門的設(shè)備來檢測這些產(chǎn)品的性能是否符合要求。檢測設(shè)備很多，如工藝檢驗、晶圓檢驗設(shè)備、驗證測試設(shè)備等。目前，全球市場基本被美國和日本的科技公司壟斷

5.半導(dǎo)體原材料

與設(shè)備相比，半導(dǎo)體所需的原材料也非常重要。雖然碎片都是沙子做的，但是把沙子變成碎片的過程是非常曲折和困難的。半導(dǎo)體原材料有很多種，比如單晶硅、光刻膠、電子氣、靶材，還有很多子類。當(dāng)然也有有機光電和無機光電材料。去年，由于日本幾個關(guān)鍵半導(dǎo)體原材料短缺，三星幾乎無法開展業(yè)務(wù)

此外，除了核心設(shè)備光刻機，用于光刻工藝的半導(dǎo)體設(shè)備也需要涂膠和顯影設(shè)備。涂膠顯影設(shè)備是光刻工藝中與光刻機配套使用的涂膠、烘烤、顯影設(shè)備，包括涂膠機、噴膠機、顯影機，用于8英寸及以上晶圓的大型生產(chǎn)線。

一般這類設(shè)備與光刻設(shè)備在線工作，形成成套的晶圓加工和光刻生產(chǎn)線，與光刻機合作完成精細(xì)的光刻工藝流程。