光刻機的生產國家有荷蘭、中故宮、日本、美國、韓國等，相對于其他國家來說，目前的荷蘭光刻機的精度為首，很多人誤以為我們國內生產不出光刻機，其實不是這樣的，而是精度沒有荷蘭的高，這是需要發展過長的，畢竟光刻機的生產不是一個方面因素就可以決定。另外，像光刻機運行當中所使用到的ups電源是可以直接咨詢我們優比施廠家。

在全球高端光刻機市場，荷蘭已經達到全球領先水平，而荷蘭ASML公司占據全球80%的市場份額，幾乎處于壟斷地位。ASML研發生產的EUV光刻機售價高達1億美元，年供應量非常有限。畢竟，制造光刻機的過程極其復雜，一個光刻機需要5萬個零部件。

為什么ASML能稱霸世界?最重要的原因之一是與客戶的利益捆綁。臺積電，三星、英特爾是世界頂級半導體廠商，都需要ASML設備，所以是ASML的穩定客戶。

為了利益最大化，這些半導體廠商紛紛在ASML投資，將利益與ASML捆綁在一起。ASML需要巨大的研發;d每年的資金，可以由三大半導體巨頭提供。當ASML生產出最先進的光刻機，時，它將首先供應給臺積電，三星和英特爾。

那么，ASML是如何躋身世界頂級光刻機?的呢事實上，2007年之后，ASML逐漸成為世界頂級光刻機市場的霸主。2007年之前，日本尼康和佳能也非常強勢，占據了全球很大的市場份額，但轉折點在2007年。

除了荷蘭，日本、中國也可以做光刻機，日本的代表企業是尼康、佳能，中國的代表企業是上海Microelectronics(SMEE)。目前，上海微電子可以生產90納米的光刻機，而ASML可以生產最先進的7納米的光刻機，差距仍然非常明顯。

當然，我們不要低估自己。我們應該知道，ASML在光刻機生產的大部分零部件都是從國外進口的。專業光刻機檢測采用美國技術，也采用蔡司，德國的光學鏡頭這些都是世界頂尖技術，并不是所有都可以歸一個國家所有。光刻機是人類最高智慧的結晶，需要長期的科研投入和技術積累。

在光刻機，領域，中國起步晚于歐洲，日本和美國，但我們有足夠的發展后勁。目前國內最好的芯片設計是海思，華為，研發的麒麟芯片，不亞于高通、美國，甚至在5G芯片領域達到全球領先水平。

然而，在光刻機制造和芯片制造領域，我們與發達國家仍有差距。要堅持長期投入科研和人才培養，到時候中國也能有自己的光刻機。

目前上海微電子設備系統有限公司是中國!能夠實現芯片光刻機量產的公司目前90nm的光刻機可以量產，65nm的光刻機已經研發了四五年，但是還沒有到量產階段!

前一階段，上海微電子設備在28nm商用光刻機，的研發上取得了長足的進步，但中國在通往光刻機的道路上還有很長的路要走90納米技術落后ASML15-20年。高端芯片需要高端光刻機器。美國敢制裁華為芯片業務也說明了中國半導體制造的落后!

2017年6月21日，“極紫外光刻"關鍵技術研究”通過驗收測試。此次國內自主研發的EUV光刻機技術是向前邁出的重要一步!

2019年，武漢光電中心甘宗松團隊在研究第六代光刻機，利用兩個激光束在國產光刻機上突破光束衍射極限，雕刻最小9nm，這項技術擁有完全自主產權。