光刻機在如今的科技發(fā)展領(lǐng)域當中起著重要作用，如今剛剛進入2022年，對于中國未來科技領(lǐng)域發(fā)展中的光刻機來說仍然是需要不斷努力，目前來說光刻機荷蘭的光刻設(shè)備是先進的。另外，相對于很多工業(yè)設(shè)備所需的ups電源是可以直接咨詢我們優(yōu)比施廠家，廠家直接對接更放心。

目前，高端光刻市場已經(jīng)完全被荷蘭ASML占領(lǐng)。由于缺乏技術(shù)水平，尼康和佳能7納米及以下芯片的制造能力已經(jīng)落后于ASML。目前最先進的技術(shù)是ASML開發(fā)的EUV光刻，可以適應7納米到5納米工藝芯片的設(shè)計和制造。

佳能的業(yè)務(wù)主要集中在低端光刻機器市場，主要生產(chǎn)封裝光刻機器、LED光刻機器和面板光刻機器。尼康正處于追趕ASML的狀態(tài)。尼康的光刻機種類繁多，從用獨特的多鏡頭投影光學系統(tǒng)加工大型面板，到在功能設(shè)備上制造中小型面板，充分發(fā)揮了其在面板(FPD)光刻的比較優(yōu)勢

目前尼康還在推廣ArF浸沒技術(shù)，EUV技術(shù)的應用還不成熟，光刻工藝與ASML還有很大差距。整體來看，尼康和佳能主要占據(jù)低端市場。

從光刻機器的全球市場份額來看，2020年，ASML、尼康和佳能將分別占據(jù)全球光刻機器市場的84%、7%和5%，總市場份額約為96%。從銷量變化趨勢來看，2017年至2020年，光刻機器在三家企業(yè)的銷量從294臺增長至413臺，復合年增長率約為12%。ASML銷量的市場份額從67%下降到62%，尼康從13%下降到8%，佳能從20%上升到30%。

光刻機器的制造極其復雜。從產(chǎn)業(yè)鏈來看，上游產(chǎn)業(yè)鏈主要包括11個模塊，包括測量臺和曝光臺(雙載物臺)、激光器、光速校正器、能量控制器、光速形狀設(shè)定、快門、能量檢測器、掩模板、掩模板、物鏡、內(nèi)閉架和減震器。最重要的上游設(shè)備是光學透鏡、光學光源和雙級。光刻機械行業(yè)的下游主要是圓晶代工企業(yè)，下游主要決定光刻機械市場的需求。

從上游光學鏡頭來看，世界上能生產(chǎn)光刻機光學鏡頭的公司只有三家，分別是德國卡爾蔡司，日本尼康和佳能。卡爾蔡司是光學和光電領(lǐng)域的絕對權(quán)威。第五代高端EUV光刻機使用的光學鏡頭僅由卡爾蔡司，制造，長期為ASML生產(chǎn)的光刻機提供高性能光學鏡頭。

尼康主要生產(chǎn)AF尼克爾，AF變焦尼克爾，DX系列等大光圈廣角系列鏡頭，在光刻機領(lǐng)域主要用于自身生產(chǎn)的ArFi、ARF高端光刻機。佳能主要生產(chǎn)EF系列、TS-E、MP-E系列光學鏡頭，廣泛應用于醫(yī)療技術(shù)、測量系統(tǒng)、眼鏡鏡片、相機等領(lǐng)域，主要應用于光刻機器領(lǐng)域的I-line光刻機器。

從上游光源來看，光刻機要求光源系統(tǒng)小、功率高、穩(wěn)定，所以光源是高端光刻機的另一個核心部件，最先進的EUV光刻機使用的光源是激光等離子體光源，但目前只有美國的Cymer和日本的Gigaphoton可以生產(chǎn)。Cymer是全球光源制造的領(lǐng)導者，市場份額超過70%。

雙階段雖然只是加工階段，但技術(shù)難度不可低估。它對載物臺的傳送速度和精度要求極高，在高速運動下需要達到2nm的運動精度。它的定位精度也直接影響到光刻硅片的質(zhì)量

2001年，ASML引入Twinscan雙級系統(tǒng)，使光刻機能夠在一個平臺上曝光晶圓，在另一個平臺上預對準晶圓，并在第一時間得到結(jié)果反饋。生產(chǎn)效率提高了35%左右，準確率提高了10%以上。

從圓晶，下游代工企業(yè)來看，圓晶全球代工市場呈現(xiàn)“一超多強”的現(xiàn)狀。2020年，臺積電以56%的市場份額處于絕對領(lǐng)先地位，三星和聯(lián)電分列分列二、三位，中芯國際排名第五。從工藝技術(shù)來看，領(lǐng)先技術(shù)(5nm-7nm)目前約占25%的市場份額，主要用于CPU、GPU等超大規(guī)模集成電路的制造。

2017-2020年，圓晶OEM行業(yè)全球市場規(guī)模將從601億美元增長至928億美元，復合年增長率為15.6%。隨著人工智能、物聯(lián)網(wǎng)、5G等行業(yè)的快速發(fā)展，各行業(yè)對芯片的需求呈爆發(fā)式增長，對高端光刻機的需求仍將長期供不應求。